《2010-2015年中国真空镀膜机行业市场深度调研及盈利预测报告》根据中国真空镀膜机行业发展的现状，综合国家统计局、商务部、工信部、行业协会等部门发布的统计信息和统计数据，糅合各类年鉴信息数据、各类财经媒体信息数据、各类商用数据库信息数据，依靠公司强大的研究和调查团队，立足于当前金融危机对全球及中国宏观经济、政策、主要行业的影响，重点探讨了真空镀膜机行业整体运营、区域市场、进出口、重点市场竞争者及企业品牌建设和发展前景等等，在对真空镀膜机行业深度解析的基础上，为我国真空镀膜机企业在当前激烈的市场竞争环境下洞察先机、调整经营策略及为战略投资者选择恰当的投资时机和公司领导层做战略规划提供了准确的市场情报信息及科学的决策依据。

DEF-6B操作

1. 总电源。2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。3. 开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。

关机顺序

1. 关高真空表头、关分子泵。2. 待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。3. 到50以下时，再关维持泵。

 

蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性：1。晶格匹配度2。 基片温度3。蒸发速率溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。