真空镀膜机器厂家-佛欣真空设备有限公司自1990年起从事真空技术行业，拥有20多年真空技术经验，曾荣获“国家科技进步奖”。

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且Zui终沉积在基片表面，经历成膜过程，Zui终形成薄膜。

佛山市佛欣真空技术有限公司专业从事真空离子镀膜设备设计生产。技术力量雄厚，有着丰富的镀膜加工设备的设计制造经验。镀膜设备应用在工具|手机|手表|陶瓷|玻璃水晶等行业，在用户心中树立立良好的形象与应用口碑。我们致力为客户提供核心的真空设备和技术支持，更为客户提供个性化解决方案及快捷优质的售后服务。诚信，创新，团结，务实，奉献是企业的精神，是我们不断的追求，为您提供Zui优质的服务是我们的承诺。佛山佛欣真空技术（设备）有限公司期待与您的合作.

操作程序编辑六：

a. 落下钟罩。b. 开机械泵，抽3~5min，停机械泵。c. 切断供电总开关。d. 1h后再关闭冷却水。操作全部完成。27. 正常生产中，如遇到突然停电时，要立即切断高真空测量，关闭规管灯丝，高压阀、低压阀拉出。来电后，先让机械泵启动工作3~5min后，再转入正常生产。

其原理是在真空状态下，阴阳极间产生辉光放电，极间气体分子被离子化而产生带电电荷，其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上之靶材，将其原子等粒子溅出，此溅出之原子则沉积于阳极之基板上而形成薄膜，此物理现象即称溅镀。