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真空镀膜机器厂家-佛欣真空设备有限公司自1990年起从事真空技术行业，拥有20多年真空技术经验，曾荣获“国家科技进步奖”。

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且Zui终沉积在基片表面，经历成膜过程，Zui终形成薄膜。

真空镀膜设备是电子工业元器件生产和研制

过程中广泛使用的设备。随着电子工业的发展,工艺要求也越来越高,真空镀膜设备的自动化程度和复杂程度也在不断提高。对设备出现的故障进行分析,有利于缩短设备的维修时间,同时对类似设备出现的故障也能提供帮助,从而提高科研生产的效

率,也为今后改进设备提供依据。本文主要就DMF2700这类镀膜机的原理和出现的故障进行分析。