蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性：1。晶格匹配度2。 基片温度3。蒸发速率溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。

用途：表面装饰、功能效果

  特点：离化率高、沉积速率高、磁控溅射低温稳定、颗粒细腻、操作简单、产量高等

  应用：手表配件、手机配件、眼镜架、服饰、灯饰、卫浴洁具、五金箱包、玻璃、陶瓷、及塑料等。

颜色：黄金色、玫瑰金、炫银、七彩、宝石兰、黑色、棕色、古铜色等装饰膜

温馨提示：设备可根据用户要求设计制造非标设备的。

      FOXIN-IP磁控离子溅射镀膜机是工业化生产理想设备，其Zui大特点是能对各种金属及非金属进行表面镀膜。

其原理是把真空弧光放电技术用于蒸发源的技术,即在真空环境下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,既从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子。由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性地等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层。

本公司拥有Zui完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和Zui先进的生产工艺。

蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性：1。晶格匹配度2。 基片温度3。蒸发速率溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。